荧光仪器校准的标准
来源: | 作者:proc22dfc | 发布时间: 2020-07-03 | 60 次浏览 | 分享到:
        中华人民共和国国家知识产权局 (12)创造专利恳求 (10)恳求发布号 (43)恳求发布日 (21)恳求号 201710458313.5 (22)恳求日 2017.06.16 (71)恳求人 我国计量科学研究院 地址 100013 北京市朝阳区北三环东路18 号 (72)创造人 钟源 李劲劲 张玲 王晶 钟青 王雪深 傅博强 王兰若  (74)专利署理安排 北京正理专利署理有限公司 11257 署理人 付生辉 (51)Int.Cl. G01N 21/64 (2006.01) (54)创造称号 一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片及其制备办法 (57)摘要 本创造揭穿一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片,包含基板及荧光薄膜,该荧光薄膜设置于基板上且包含具有不同荧光强度的多个荧光强度区域,每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。本创造还揭穿一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片的制备办法。本创造的用于荧光仪器校准丈量的规范样片及其制作办法,经过使用微纳加工技能,精确操控调整荧光薄膜表面上每个像素对应区域内的荧光染料填充占空比,在一个规范样片上取得多个厚度相同的荧光强度区域,且每个荧光强度区域具有精准可控的特定的荧光染料填充占空比,使取得复杂图案的小规范图构成为可能。 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 CN 107271415 A 2017.10.20 CN 107271415 A 1.一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片,包含基板;及荧光薄膜,设置于所述基板上且包含具有不同荧光强度的多个荧光强度区域; 其特征在于,所述多个荧光强度区域中每个荧光强度区域具有特定的荧光染料填充占空比。 2.依据权利要求1所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,依据微纳加工技能取得所述特定的荧光染料填充占空比。 3.依据权利要求1所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,所述荧光强度区域包含多个与像素对应的重复单元,同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。 4.依据权利要求3所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,所述重复单元规范小于或等于所述像素规范。 5.依据权利要求4所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,所述像素为人眼像素或CCD像素。 6.依据权利要求3所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,选用光刻、纳米压印或电子束曝光取得所述重复单元。 7.依据权利要求6所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,光刻时,与所述重复单元对应的光刻板中透光或不透光部分的占空比与所述重复单元的荧光染料填充占空比相同。 8.依据权利要求7所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,光刻胶为混有荧光资料的光敏高分子资料。 9.依据权利要求1所述的用于荧光仪器校准丈量的规范样片,其特征在于,所述规范样片表面涂覆有保护层。 10.一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片的制备办法,其特征在于,包含:制备基板;在所述基板上制作荧光薄膜,具体包含: 在所述荧光薄膜上构成具有不同荧光强度的多个荧光强度区域; 依据微纳加工技能在所述每个荧光强度区域上构成多个与像素对应的重复单元,使同一荧光强度区域中的重复单元具有相同的荧光染料填充占空比。 权 利 要 求 书 1/1 页 CN 107271415 A 2 一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片及其制备办法 技能领域 [0001] 本创造触及荧光仪器校准丈量。更具体地,触及一种用于荧光仪器校准丈量的规范样片及其制备办法

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